曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术 ,在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机,是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。
曝光机基本工作原理:
在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形.根据电路板的线路的粗细来决定上下光源的曝光能量,能量不足电路板无法曝光,要是能量过高电路板就会过曝,所以在曝光电路板时,必须先测试电路板所需的能量,从而进行电路板的曝光生产。
四元数视觉阻焊曝光机伺服控制双框单面曝光,单平台升降控制上下框对位。我们可以通过控制0—10V的模拟电压输出来控制曝光灯的能量,在操作的时候可以直接通过输入能量百分比来控制。可以单独上框做板或者下框做板。
视觉阻焊曝光机特点:
1.高效率的视觉工控机和成熟的软件保证机器流畅的使用。
2.采用四个千兆网口相机,在我们移动板或者菲林的时候搜索到的靶标保持相对静止。
3.简洁的操作界面保证操作工上手快。(界面可根据操作习惯修改)
4.全面的安全机制以及报警提示保证操作工的安全和可以快速的排除出现的问题。
